지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2018.2
- 수록면
- 262 - 262 (1page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
등록된 정보가 없습니다.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
-
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
-
Frequency Varied Capacitance-Voltage Characteristics of Al/HfO₂/Si Capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Effect of Annealing Temperature and Annealing Time on Electrical Properties of HfZrO₄ Dielectric
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
-
Electrical Characteristics Comparison of Amorphous Indium Gallium Zinc Oxide (a-IGZO) According to Various Annealing Ambient
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Improved Electrical and Optical Characteristics of Sol-Gel Processed ITO Thin Films Using Low Thermal Budget Microwave Annealing
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
-
Effects of Annealing Temperature on Capacitance-Voltage Characteristics of Al/HfO2/Ge Capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Impact of impurities and annealing conditions on the characteristics of Si/HfO₂:Al/TiN ReRAM devices
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
-
H₂O₂ effects of HfO₂ dielectric layers
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
-
Analysis on interface trap density of MOS capacitor with Al-doped HfO₂ insulation layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
-
Effect of Underlayer, CoFeB Composition and Annealing Temperature on Perpendicular Magnetic Anisotropy of CoFeB
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2021 .07
-
A Study on Optimized Calcination Technique for Improving Electrical Properties of In-Ga-Zn-O nanofiber
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Annealing Temperature Effect on Al/ HfO₂/ InP capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
-
The Investigation on the Instability of Amorphous-Oxide-Semiconductor Thin-Film-Transistors Annealed by Conventional Thermal annealing and Microwave Irradiation
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
-
The Impacts of Various Susceptors in Microwave Annealing forIndium-Tin-OxideThinFilms
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
-
Electrical Characteristics in Field-Cycling of Zr:HfO₂ and Si:HfO₂ Ferroelectric Capacitors by First-order reversal curve diagram
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
-
Electrical properties of solution processed HfO₂ gate dielectrics at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2018-420-001781181