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Effect of gas content and treatment temperature on the characteristic of surface layers of Low Temperature Plasma Nitrided 316L austenitic stainless steel
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Improved device performance of boron-nitride-based thin-film transistors
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Novel thermoelectric thin film nitrides by theory and experiments
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Formation of Graphene-Seeds on Silicon Nitride Using Chemical Vapor Deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Effects of processing parameters on nitriding of AISI 420 martensitic stainless steel
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Gallium nitride MIS-HFETs for power switching applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Passivation Properties of Hydrogenated Silicon Nitrides deposited by PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Direct synthesis of Graphene/Boron nitride stacked layer by CVD on Cu foil
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Plasma etching of gallium nitride at high temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Tantalum nitride 기반의 저항변화메모리 특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Surface hardening of tool steel by plasma nitriding with ion/particle bombardment and its wear behavior
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Magnetic properties of 57FeN@Pt/C by high-pressure nitriding approach
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2022 .11
High-gas pressure stabilization of the meta-stable magnetic hydrides, oxides, and nitrides
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2016 .11
Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride using a VHF (162 MHz) plasma source
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Reactions between silicon precursors and surface sites during atomic layer deposition of silicon nitride
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
RF analysis in tantalum nitride thin film resistor
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Indoor Air Purification via Visible-light-active Polymeric Carbon Nitride Photocatalyst
한국대기환경학회 학술대회논문집
2022 .10
Enhancing thermal conductivity of hexagonal boron nitride and boron nitride nanowire composite through surface modification
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
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