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This paper describes optimizing fabrication methods for 2-axis electrically levitated MEMS gyroscope. Electrostatically levitated gyroscope has very high potential of performance due to the fact that its proof mass is not mechanically bound to any other structures, but its complex structure and difficulty of fabrication holds back the research that only a few researches have been reported. In this work, fabrication method for glass-silicon-glass 3-floor structure for 2-axis electrically levitated MEMS gyroscope is presented, including simplified multi-level glass etch method utilizing photoresist attack, preventing metal diffusion by adding middle layer of metal electrode, overcoming Deep RIE limitation by separate fabrication of silicon structures and keeping the electrode safe from dicing debris.
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참고문헌 (7)
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K. Liu / 2009 / The development of micro-gyroscope technology / J. Micromech. Microeng 19:113001
D. Xia / 2014 / The development of micromachined gyroscope structure and circuitry technology / Sensors 14(1):1394~1473
T. Murakoshi / 2003 / Electrostatically levitated ring-shaped rotationalgyro/accelerometer / Jpn. J. Appl. Phys 42:2468~2472
M. Kraft / 2010 / Micromachined gyroscopes based on a rotating mechanically unconstrained proof mass / Proc. of 9th IEEE Conf. on Sensors :23~28
S. Nakamura / 2005 / MEMS inertial sensor toward higher accuracy amp; multi-axis sensing / Proc. of 4th IEEE Conf. on Sensors :939~942
D. Xia / 2014 / The development of micromachined gyroscope structure and circuitry technology / Sensors 14(1):1394~1473
T. Murakoshi / 2003 / Electrostatically levitated ring-shaped rotationalgyro/accelerometer / Jpn. J. Appl. Phys 42:2468~2472
M. Kraft / 2010 / Micromachined gyroscopes based on a rotating mechanically unconstrained proof mass / Proc. of 9th IEEE Conf. on Sensors :23~28
S. Nakamura / 2005 / MEMS inertial sensor toward higher accuracy amp; multi-axis sensing / Proc. of 4th IEEE Conf. on Sensors :939~942
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